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半导体废水处理方法

返回列表 来源: 三人行环境 发布日期: 2020.04.13

半导体废水污染物种类多,成分复杂。半导体行业的废水可以分为含氟废水、含磷废水、有机废水、研磨废水、氨氮废水和酸碱废水等等,其中含硅废水很难脱硅,原始含硅废水pH4.5,在TNA作用下,达到一定ORP电位值,硅胶表面吸咐的烃类表面活性剂类便会脱稳,长分子链断裂。三人行研发的稳脱剂能破坏硅胶稳定性,促进硅胶体脱稳析出,从而能更好解决半导体废水处理中的重金属问题。

工业废水处理工程-三人行环境.jpg


半导体废水处理具有以下特点:

1、排放水量大

2、含有大量金属离子

3、含有各种有机污染物

4、高浓度的极细悬浮颗粒

半导体废水处理方法:

1、含氰清洗水的处理:含氰清洗水采用两级碱性氧化法处理工艺。设置机械搅拌系统、PH控制系统、ORP控制系统以及加药(酸、碱、氧化剂)系统,通过在线pH/ORP值自动控制药剂的投加量。首先进行一级氧化破氰,调节pH在10.5-11之同,ORP值300一4oo mv,反应时间15~20min,将CN-氧化就为CN0-。二级氧化破氰时调节pH在7~8之间,ORP值600~650m'V,反应时间15~20min,将CN0-完全氧化为CO2、N2,至此完成整个破氰过程。破氰后的含氰清洗水自流进入一般清洗水作进一步处理。

2、一般清洗水废水处理:一般清洗水C0D<50mg/L,主要重金属污染物为Ag、Cu、Ni,化学性质相似,其氢氧化物的难度积都可以满足排放标准的要求,因此合并一起处理,同时利用共沉淀原理还可以降低用碱量。加减沉淀法需要注意考虑pH控制条件和金属离子共存时相互作用的影响。各种金属离子去除的最佳pH,一般控制pH为8.5~9,然后投加重捕剂、混凝剂和絮凝剂进行混凝沉淀。沉淀上清液进入暂存池,作为回用系统原水,进入回用系统深度处理。

以上是三人行环境工程师为您简单整理的半导体废水处理方法,希望对您有所帮助,如需了解更专业半导体工业废水处理技术,欢迎咨询三人行环境工程师。

工业废水处理-三人行环境

东莞市三人行环境科技有限公司 是一家集设计、施工、运营为一体的环保治理企业,有专业的废水处理研发团队、废水分析实验化验团队、废水处理运营团队、工程实施维护团队确保给客户快速准确服务主要服务方向为:废水处理、废气处理等,擅长工业废水处理熟悉多种废水处理研发生产工艺,从源头上控制污染源的排放量,减少污泥量,更有利于达标排放和节约运营成本。

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